| Vertuoso レイアウトエディタ コマンド |
| 機能 | 操作 | バインドキー | 説明 |
|---|---|---|---|
| 領域拡大 | 右クリックしながらドラッグ | [ | [View]→[Zoom]→[Zoom In]で拡大範囲（矩形）の1つの頂点をクリックしてから、対角の頂点をクリックする方法もある。 |
| 全体表示 | [View]→[Fit All] | f | 図形が描かれている領域を画面一杯に表示する。 |
| 2倍拡大 | [View]→[Zoom]→[In by 2] | CTRL+zまたは] | ]キーでもよい。 |
| 2倍縮小 | [View]→[Zoom]→[Out By 2] | SHIFT+zまたは[ | [キーでもよい。 |
| 再描画 | [View]→[Redraw] | r | 表示レイヤーを変更した場合に画面の再描画が必要となる。 |
| 移動 | [View]→[Pan]で、中心にもってきたい場所をクリックする。 | TAB | 矢印キーでも移動できる。ワールドViewをクリックする方法もある。 |
| ディスプレイレベルの変更 | [Options]→[Display...]またはツールバーのDisplay Stop Level欄 | Shift+f（全階層表示）, CTRL+f（最上位階層表示） | 階層化された設計で、どの階層まで表示を行うかを決める値がディスプレイレベルである。ディプレイレベルが大きいほど細部まで表示されるが、描画速度が遅くなる。通常は、10程度を使用。 |
| 特定レイヤー表示 | LSWで表示したいレイヤーを選んで、NVボタンをクリック。レイアウトエディタで、再描画(rキー)する。 | ||
| 全レイヤー表示 | LSWで表示したいレイヤーを選んで、AVボタンをクリック。レイアウトエディタで、再描画(rキー)する。 |
| 機能 | 操作 | バインドキー | 説明 |
|---|---|---|---|
| 配線 | [Create]→[Wire] で始点からクリックして始める。折り曲げるポイントでクリックしていき、終点ではダブルクリック。 | CTRL+SHIFT+w | 配線は矩形で描くことも出来るが、Wireコマンドを利用したほうが配線幅が自動的に設定されるので楽。配線幅を変えるには、配線途中で右クリックすると表示されるメニューからOptions...（またはF3キー）を選び、Create Wireフォームを表示させ、Widthの数値を変更する。右クリックメニューでは、配線途中でコンタクトやVIAを介して配線レイヤーを移動することもできる。 |
| 矩形入力 | [Create]→[Shape]→[Rectangle]で対角線の頂点を2点クリックする。 | b | |
| ルーラの作成 | [Tools]→[Create Ruler]で始点と終点をクリックするする。 | k | 図形の大きさは基本的にグリッドを数えればわかるが、大きな図形の寸法を調べる場合にはルーラを使うと便利。 |
| ルーラの消去 | [Tools]→[Clear All Rulers] | SHIFT+k | 表示されているルーラを全て消去する。 |
| インスタンスの作成 | [Create]→[Instance...]で起動するBrowserでインスタンスを選んで、配置する場所をクリックする。 | i | Cell（layout viewがあるもの）を呼び出して配置するコマンド。インスタンスの作成を実行するとCreate Instanceフォームが表示されるので、Rows, ColumnsおよびDelta X, Delta Yを指定すると、一定間隔で複数のインスタンスを並べることができる。パラメタライズドセルPCELL（テクノロジデータとして提供されるもの）やQCELL（ユーザが自分で作成するもの）と呼ばれるセルを呼び出したときは、プロパティ値の設定により、レイアウトの作成が自動化される。VDEC提供のvdecRO180PDKを読み込んでいる場合は、MOSFET、抵抗、容量のレイアウトが自動生成できる。 |
| 回転、左右反転、上下反転 | [Edit]→[Rotate] | インスタンス作成の際に、Create Instanceフォームにより向きを変えることもできる。インスタンスによっては、回転が許可されない場合がある。 | |
| 整列 | [Edit]→[Advanced]→[Align...]により表示されるAlignフォームで、Referenceの方向と位置(Center, Edgeなど)を選択し、基準となるインスタンスをクリック。さらにAlign UsingをObject - Instance と位置(Center, Edgeなど)を選び、整列させたいインスタンスをクリックしてから、Applyボタンをクリックする。 | 複数のインスタンスやオブジェクトをぴったり整列させたい場合に使用する。 | |
| VIAの生成 | [Create]→[Via...]で現れるCreate ContactフォームのContact Typeで所望のコンタクトの種類を選択し、配置する場所をクリックする。 | o（オー） | Rows, Columnsの設定により複数個のコンタクトを一体配置可能である。 |
| ガードリングの生成 | [Create]→[Guard Ring]で現れるGuard Ringフォームで、Guard Ring templateを設定し、ガードリングを作成したい図形を囲むように、マウスをドラッグする。 | SHIFT+g | 予めパラメタライズドセルの設定がされていれば、基板の電位の固定や外部雑音を遮断するためのガードリングパターンを生成することができる。 |
| ラベル | LSWで対象とする配線レイヤーを選択した後、[Create]→[Label...]でCrate Labelフォームを表示させ、LabelとHeightを入力し、レイアウトエディタ上でラベルを割り当てる配線をクリックする。 | l（エル） | LVSやExtract後のポストレイアウトシミュレーションにおいて、回路図とレイアウト上の配線の対応が必要なため、入出力や電源配線にラベルを付けておく必要がある。 |
| 機能 | 操作 | バインドキー | 説明 |
|---|---|---|---|
| 削除 | [Edit]→[Delete]で削除したい図形をクリックして選択する。 | DEL | |
| 選択解除 | [Edit]→[Select]→[Deselect All] | CTRL+d | 図形をクリックすると選択され、その図形に対して編集操作が行われるが、図形やインスタンスが重なっている場合、意図しない図形が編集対象となるため、クリックの前に全ての選択を解除したいことが多い。 |
| 移動 | [Edit]→[Move]で移動したい図形をクリックして選択する。目的地までマウスポインタを移動し、クリックして位置を確定する。 | m | 複数の図形を一度に移動する場合には、予め移動する図形を選択しておいてからコマンドを入力する。同時に図形のレイヤーを変更するには、移動コマンドを起動した後、F3キーでMoveフォームを出し、Change To Layerをチェックした後、移動先のレイヤーを選択することもできる。 |
| コピー | [Edit]→[Copy]でコピーしたい図形をクリックして選択する。目的地までポインタを移動し、クリックして位置を確定する。 | c | 複数の図形を一度にコピーする場合は、予めコピーする図形を選択しておいてから、コマンドを入力する。 |
| ストレッチ | [Edit]→[Stretch]でストレッチ図形あるいは辺をクリックして選択する。目的地までポインタを移動し、クリックして位置を確定する。 | s | 矩形や多角形の一辺を引き伸ばしたり、クランクのあるパスの折り曲げるポイントを移動したりするときにストレッチを使用する。 |
| アンドゥ | [Edit]→[Undo] | u | 再実行は、SHIFT+u |
| プロパティ設定 | [Edit]→[Properties...]でPropertiesフォームを表示させ、変更したい図形をクリックする。フォーム上で変更を加えたらOKボタンをクリックする。 | q | パスの幅や参照位置を変えたり、図形のレイヤーを変更するためにはプロパティの変更を行う。図形を選択した後、[Edit]→[Properties...]またはqキーでも実行可能。クリックにより選択した図形のプロパティは、左端のプロパティエディタにも表示される。プロパティエディタのAttributes欄に数値を直接入力しても、プロパティを変更できる。 |
Copyright (C) 2009- Akio Kitagawa, Kanazawa Univ.